삼성電, 30조 투자 평택 반도체 P3 라인
삼성電, 30조 투자 평택 반도체 P3 라인
  • 경기도민일보
  • 승인 2020.08.10 13:10
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내달 착공 건축허가 면적 70만㎡

삼성전자는 평택캠퍼스에 세 번째 반도체 생산 라인을 내달 착공한다.

10일 평택시와 삼성전자에 따르면 총 30조원 이상이 투입될 평택캠퍼스의 세 번째 반도체 생산라인(P3)의 건물 착공이 이르면 내부터 시작된다. 삼성전자는 P4~6라인 건설에 대비해 평택시에 공업용수를 추가로 확보해달라고 요청하는 등 나머지 라인 신축도 서두르고 있다.

P3 라인은 삼성전자가 평택캠퍼스에 짓기로 한 총 6개의 라인 중 최대 규모다. 최종 건축허가 면적은 70만㎡로 알려졌으며 반도체 생산 라인 2개 층과 사무실 등 부속동 5개 층 이상을 합친 규모로 예상된다.

반도체 공장 건설과 설비 반입, 생산까지 3~4년가량 소요되는 점을 고려하면 P3 라인은 2023년 하반기에 본격적인 양산에 들어갈 것으로 관측된다.

P3 라인 건설로 삼성전자 평택캠퍼스에 확보된 총 6개 반도체 공장 부지 가운데 절반이 가동 중이거나 공사에 들어가게 됐다.

이는 코로나19로 인한 불확실성 속에서도 “위축되지 말고 끊임없이 도전하자”는 최고경영자로서의 이재용 부회장의 리더십이 반영됐다는 평가다.

앞서 삼성전자는 2분기 시설투자에 영업이익 8조1500억원보다 1조6500억원이 많은 9조8000억원을 집행했다. 상반기에만 14조7000억원의 투자를 집행했으며 하반기에도 이 같은 수준의 투자를 단행할 것으로 보인다.

경기도민일보, KGDM


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